硬件基础知识笔记(2)——二级管、三极管、MOS管
Part 2 二级管、三极管、MOS管
- 1、二级管
- 1.1肖特基二极管和硅二极管选型比较
- 1.2到底是什么决定了二极管的最高工作频率?
- 1.3二极管结电容和反向恢复时间都是怎么来的
1、二级管
1.1肖特基二极管和硅二极管选型比较
肖特基二极管的优势主要在速度和压降,对这两个没要求的场景,那自然选择更便宜的由硅构成的二极管。
- 二极管导通电压
提起二极管导通电压,估计脑子里面都是0.7V,形成这个印象其实并不好,有4 点原因。
1、这个0.7V,说的是硅二极管,肖特基二极管要更低。
我们经常使用二极管串联在电源支路上面,防止倒灌。那你担心过二极管上面压降太大吗?
在对压降有要求的地方,可能用的就是肖特基二极管,它的压降有多低呢?
以英飞凌的BAT60BE237 为例子吧,我截个图给大家看看。
通过10mA 的电流,压降才0.24V。
对于一些小电流防倒灌的场合,电压不能下降太多,肖特基二极管就比较实用了。如果工作电流更小,可能压降才零点一几伏。
所以,不要看到个电路中串了个二极管,就觉得这个压降是0.7V。
2、导通电压门限,这本身就是个模糊的定义
我们知道二极管的伏安特性曲线是对数关系,那到底是通过1mA 电流时看作开始导通,还是10mA?100mA?
3、导通电压有时会到1V 以上,不同型号也相差比较大
总会有用到大电流的时候,其实也不用太大,1A 就行。这时硅构成的二极管,它导通电压其实一般都到1V 左右了。
下图是DIODES 品牌的超快恢复二极管系列,可以看到1A 时,导通电压在1V 以上,其中耐压600V以上的二极管导通电压都到了1.7V。
4、发光二极管导通压降差异更大
发光二极管也是二极管,不过它的区别就更大了。
发光二极管有多种颜色,他们的导通电压都不相同:例如红色为2V 左右、蓝色约2.8V 左右等等。
所以,在脑子里面形成潜意识,二极管导通电压为0.7V,非常不好。 - 二极管漏电流
这个参数,值得一提的是,肖特基二极管的漏电流,是硅二极管的100 倍左右。
还有一点就是,漏电流与温度有很大的关系。温度越高,漏电流越大。
硅二极管温度越高,漏电流越大,是原因硅二极管的漏电流是由少子决定的,温度越高,本征激发越强烈,少子浓度会升高,所以漏电流就越大了。
下面对比下某肖特基二极管和硅二极管的漏电流大小。
可以看到,肖特基二极管漏电流较大,在100 摄氏度时甚至到了5mA。
与此同时,漏电流的大小与温度有很大关系,125℃是25℃的几十倍。
其它几个参数简单提下
反向恢复时间:实际应用中的二极管,在电压突然反向时,二极管电流并不是很快减小到0,而是会有比较大的反向电流存在,这个反向电流降低到最大值的0.1 倍所需的时间,就是反向恢复时间。
工作频率:由反向恢复时间决定的。
耐压:记住肖特基二极管耐压值,很难做高就行吧,一般不超过100V,当然,更高的也有,这里只说常见的。而硅二极管可以做很高。
1.2到底是什么决定了二极管的最高工作频率?
估计有不少人会回答是二极管反向恢复时间Trr,也有人会说是二极管结电容,那到底谁是对的呢?
或者说都一样,反向恢复时间由结电容决定?
结电容Cj or 反向恢复时间Trr
到底什么决定了二极管的最高工作频率,我们暂且不论,不过需要知道的是,二极管的反向恢复时间和结电容不是一回事,反向恢复时间绝不能等同于二极管手册中结电容的充放电时间。
- 结电容
二极管会存在寄生电容,这个电容主要就是结电容,这是简单的二极管模型。
- 反向恢复时间
实际应用中的二极管,在电压突然反向时,二极管电流并不是很快减小到0,而是会有比较大的反向电流存在,这个反向电流降低到最大值的0.1 倍所需的时间,就是反向恢复时间。
一般厂家的二极管会给出结电容和反向恢复时间Trr 的参数,我们现在来对比一下4 种不同类型的二极管参数。
分别为肖特基二极管,超快恢复二极管,快恢复二极管,普通二极管。
为了让结果更有说服力,我们保证4 种二极管的生产厂家,耐压,封装,最大工作电流一致。这里选择厂家为DIODE 美台半导体,最大反向耐压都为100V,封装都是SMA,最大工作电流为1A。
型号分别是:
肖特基二极管:B1100-13-F
超快恢复二极管:US1B-13-F
快恢复二极管:RS1B-13-F
普通二极管:S1B-13-F
这几个二极管参数截图如下:
肖特基二极管的结电容是这里面最大的。肖特基二极管的工作频率不是最高的吗?怎么结电容反而是最大的?
虽然规格书手册中,没有列出来肖特基二极管的反向恢复时间,但是我们应该都知道,它的反向恢复时间是最小的。
严格来说,肖特基二极管本身的工作原理与硅二极管是不一样的,它是不存在反向恢复时间的。只是毕竟有寄生电容的存在,所以工作频率也有一个上限
我们知道,这几种二极管的最高工作频率顺序是下面这样的
而现在我们知道,它们的结电容,肖特基是最大的,为80pF。其它三个二极管差不多,为10pF-20pF,但是反向恢复时间相互之间差了一个数量级。
另外,我们假设反向恢复时间就是结电容的充电时间,我们可以计算下充满结电容需要的时间是多长。
以快恢复二极管RS1B-13F 为例,其结电容是15pF,反向恢复电流如下图(规格书中提取的)。平均反向电流大概是0.5A,那么将15pF 从0V 充到-50V 的时间很容易计算出来,是1.5ns,这比实际的反向恢复时间150ns 短很多。
所以可以肯定的是,反向恢复时间的长短,不是由二极管手册标注的那个结电容决定的。
其实很容易想到:
1、如果结电容太大,工作频率高不了。因为频率越高,电容的阻抗越低,信号都从电容直接过去了,二极管失去了反向截止的作用。
2、如果反向恢复时间太大,工作频率也高不了。因为频率越高,电压翻转越快,反偏之后反向电流还没恢复,电压又变了,二极管也失去了反向截止的作用。
所以,总的来说,结电容和反向恢复时间,都会影响二极管的最高工作频率。具体由谁决定,那看谁的影响更大。
肖特基二极管的反向恢复时间很短,所以其工作频率由结电容决定。
硅二极管,其反向恢复时间的影响远大于结电容的影响,结电容一般也就几十pF,因此其最高工作频率由反向恢复时间决定。
而与此同时,我们知道,肖特基二极管与硅二极管相比,肖特基速度是最快的,可以工作在更高的频率。
反向恢复时间并不是手册标注的结电容的充放电时间。
1.3二极管结电容和反向恢复时间都是怎么来的
- 结电容
二极管是两个管脚的器件,两个管脚会形成电容,不过这个电容很小,相比结电容来说,可以忽略不计了。
那结电容到底指的是什么呢?所有的道理,其实都在PN 结里面,我们稍稍深入了解下PN 结,答案就出来了。
结电容有两种,分别是势垒电容和扩散电容。
- 势垒电容
我们知道,P 区空穴多,N 区电子多,因为扩散,会在中间形成内建电场区。N 区那边失去电子带正电荷,P 区那边得到电子带负电荷。
当给PN 结加上稳定的电压,那么稳定后,内建电场区的厚度也会稳定为一个值,也就是说内部电荷一定。如果PN 结上的电压向反偏的方向增大,那么内建电场区厚度也增加,即内部电荷增多。反之,如果电压减小,那么内部电荷减少。
这样一看,不就和电容充放电现象一样吗?
PN 结两端电压变化,引起积累在中间区域的电荷数量的改变,从而呈现电容效应,这个电容就是势垒电容。
上面是对结电容的理解,那么这个结电容大小等于多少呢?如下图
我们知道,势垒宽度,也就是内建电场区的宽度,是与电压相关的。所以说,不同的电压下,势垒电容的大小也是不同的。
所以,当你随意翻开某二极管的规格书,你看到的结电容参数,它会指定测试条件。通常这个条件是1MHz,电压为-4V(反偏)。
事实表明,二极管在反偏时,势垒电容起主要作用,而正偏时,扩散电容起主要作用。下面看看扩散电容。
- 扩散电容
相比与势垒电容,扩散电容要更难以理解。
扩散电容:当有外加正向偏压时,在p-n 结两侧的少子扩散区内,都有一定的少数载流子的积累,而且它们的密度随电压而变化,形成一个附加的电容效应,称为扩散电容。
当PN 结加上正向电压,内部电场区被削弱,因为浓度差异,P 区空穴向N 区扩散,N 区的电子向P区扩散。
扩散的空穴和电子在内部电场区相遇,会有部分空穴和电子复合而消失,也有部分没有消失。没有复合的空穴和电子穿过内部电场区,空穴进入N 区,电子进入P 区。
进入N 区的空穴,并不是立马和N 区的多子-电子复合消失,而是在一定的距离内,一部分继续扩散,一部分与N 区的电子复合消失。
显然,N 区中靠近内部电场区处的空穴浓度是最高的,距离N 区越远,浓度越低,因为空穴不断复合消失。同理,P 区也是一样,浓度随着远离内部电场区而逐渐降低。总体浓度分布如下图所示。
当外部电压稳定不变的时候,最终P 区中的电子,N 区中的空穴浓度也是稳定的。也就是说,P 区中存储了数量一定的电子,N 区中存储了数量一定的空穴。如果外部电压不变,存储的电子和空穴数量就不会发生变化,也就是说稳定存储了一定的电荷。
但是,如果电压发生变化,比如正向电压降低,电流减小,单位时间内涌入N 区中的空穴也会减小,这样N 区中空穴浓度必然会降低。同理,P 区中电子浓度也降低。所以,稳定后,存储的电子和空穴的数量想比之前会更少,也就是说存储的电荷就变少了。
这不就是一个电容吗?电压变化,存储的电荷量也发生了变化,跟电容的表现一模一样,这电容就是扩散电容了。
那这个电容大小是多少呢?
扩散电容随正向偏压按指数规律增加。这也是扩散电容在大的正向偏压下起主要作用的原因。
如上图,二极管的电流也与正向偏压按指数规律增加,所以,扩散电容的大小与电流的大小差不多是正比的关系。
- 为什么是少数载流子的积累呈现电容效应?多子不行吗?
少数载流子,指的是N 区中的空穴,P 区中的电子。要知道,N 区中有更多的电子,就因为P 区中的空穴扩散到N 区,N 区就带正电了吗?
假如没有扩散作用,N 区中电子是多子,且电子带负电,但是整个N 区是电中性的,因为N 区是硅原子和正五价原子构成,它们都是中性的。同理P 区中空穴是多子,整体也是电中性的。
现在将N 区和P 区放到一起,并加上正电压,就有了正向电流。N 区的电子向P 区移动,P 区的空穴向N 区移动,如果电子和空穴都在交界处复合消失,那么N 区和P 区还是电中性的。
但事实是,电子和空穴有的会擦肩而过,电子会在冲进P 区,空穴也会冲进N 区。尽管P 区有很多空穴,电子进入后也不会马上和空穴复合消失,而是会存在一段时间。这时如果我们看P 区整体,它不再是电中性了,它有了净电荷。电荷数量就是还没有复合的电子数量,也就是少数载流子的数量。同理,N区也有净电荷,为少数载流子空穴的数量。
所以说,扩散电容是少数载流子的积累效应。
事实表明,PN 结正偏的时候,结电容主要是扩散电容,PN 结反偏的时候,结电容主要是势垒电容。
- 反向恢复时间
e = - d φ d t \frac{dφ}{dt} dtdφ = -L d i d t \frac{di}{dt} dtdi
w = 1 L C \frac{1}{\sqrt LC } LC1
A B → \overrightarrow{AB} AB
∫ \int ∫
L C \sqrt LC LC
敬请期待。。。
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